Objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza para circuitos integrados, objetivos de panel plano para la industria de pantallas LCD, objetivos de pulverización catódica para componentes semiconductores y materiales objetivo para la industria de la energía solar.

Los materiales de evaporación de titanio de alta pureza se utilizan ampliamente en el recubrimiento al vacío, con dimensiones de producto personalizables.

Los materiales de evaporación de titanio de alta pureza se utilizan ampliamente en el recubrimiento al vacío, con dimensiones de producto personalizables.

Para el cableado interno fino en paneles, el cobre de alta pureza con un contenido de impurezas extremadamente bajo minimiza la interferencia y la pérdida de transmisión de señal, lo que garantiza un funcionamiento estable de los paneles de visualización de alta resolución.

Titanio de alta pureza: es el material central de las articulaciones artificiales y los soportes ortopédicos de fijación interna. La pureza ultra alta puede evitar reacciones de rechazo biológico causadas por impurezas, al tiempo que garantiza la compatibilidad a largo plazo entre los implantes y los tejidos humanos.