Objetivo de titanio

Los objetivos de titanio son materias primas clave utilizadas en el proceso de pulverización catódica por deposición física de vapor (PVD). Las partículas de alta energía bombardean sus superficies, pulverizando átomos o iones de titanio, formando una película de titanio o compuesto de titanio de alta pureza y alto rendimiento sobre el sustrato.

▸Características principales y especificaciones técnicas:
1. Pureza ultraalta: Disponibles en distintos niveles de pureza, desde 99,99 % (4 N) hasta 99,9999 % (6 N), estos objetivos cumplen con los estrictos requisitos de impureza de diversas aplicaciones y garantizan una excelente conductividad, resistencia a la corrosión y biocompatibilidad.
2. Tamaño y peso personalizables: Se admite la producción totalmente personalizada. Se pueden diseñar y fabricar tamaños y pesos máximos para cumplir con las cámaras de equipos, los requisitos del proceso y la potencia de pulverización específicos del cliente, proporcionando la máxima flexibilidad del proceso.
3. Embalaje profesional: Empaquetados de forma segura en cajas o paletas de madera, estos objetivos de alto valor y alta precisión están protegidos contra daños, contaminación y deformaciones durante el transporte y el almacenamiento, cumpliendo con los estándares de envío industrial.

▸Áreas de aplicación principales:
1. Pantallas LCD (Pantallas de cristal líquido): Se utiliza para depositar electrodos (como compuerta, fuente/drenaje) o capas de barrera en matrices de transistores de película delgada (TFT), lo cual es crucial para mostrar el rendimiento y el rendimiento.
2. Dispositivos e Implantes Médicos: Se utiliza para depositar películas delgadas de titanio o nitruro de titanio de alta pureza en las superficies de dispositivos médicos como articulaciones artificiales, tornillos óseos, implantes dentales y stents cardiovasculares, mejorando significativamente la biocompatibilidad, la resistencia al desgaste, la resistencia a la corrosión y la osteointegración de los productos.